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廠房介紹



Fab 6A


潔淨度: 0.1um/Class 10
製程: 0.45um
規劃產能:50,000 wafers/month
生產晶圓: 6"
廠址: Hsin-Chu, Taiwan


Fab 8AB


潔淨度: 0.1um/Class 1
製程: 0.25um
規劃產能:70,000 wafers/month
生產晶圓: 8"
廠址: Hsin-Chu, Taiwan

   


Fab 8C


潔淨度:0.1um/Class 1
製程:0.35um - 0.15um
規劃產能:35,000 wafers/month
生產晶圓: 8"
廠址: Hsin-Chu, Taiwan


Fab 8D


潔淨度: 0.1um/Class 1
製程: 90nm
規劃產能: 35,000 wafers/month
生產晶圓: 8"
廠址: Hsin-Chu, Taiwan

   


Fab 8E


潔淨度: 0.1um/Class 1
製程: 0.18um
規劃產能:35,000 wafers/month
生產晶圓: 8"
廠址:Hsin-Chu, Taiwan


Fab 8F


潔淨度: 0.1um/Class 1
製程: 0.15um
規劃產能: 40,000 wafers/month
生產晶圓: 8"
廠址: Hsin-Chu, Taiwan

   


Fab 12A (12-inch Fab)

製程:65nm
規劃產能: 40,000 wafers/month
生產晶圓: 12"
廠址: Tainan, Taiwan


UMCJ


製程:0.15um
規劃產能:32,000 wafers/month
生產晶圓 :8"
廠址: Japan

   


Fab 12i (12-inch Fab)


製程: 90nm
生產晶圓: 12"
廠址: Singapore


Fab 8S

潔淨度: 0.1um/Class 1
製程: 0.25-0.15um
規劃產能: 25,000 wafers/month
生產晶圓: 8"
廠址: Hsin-Chu, Taiwan