聯華電子65奈米製程已得到市場廣大的支持

在協助65奈米客戶更容易導入設計方面，聯華電子提供的DFM資源扮演了很重要的角色

聯華電子今日(22日)對外宣佈其在65奈米製程生產上的進展。多家分別生產不同半導體應用產品的客戶，已對於此尖端製程表達了高度的需求與興趣。兩家客戶業已驗證其設計，並且於聯華電子晶圓廠內開始製造多種不同的65奈米產品；而其他八家客戶，則有11項產品預定於今年夏季結束前完成設計定案(tape-out)。晶片設計公司可運用聯華電子已建立的可製造性導向設計(Design for Manufacturing, DFM)解決方案，如在最近於90奈米製程世代，(請參照新聞稿 http://www.umc.com/chinese/news/20060301.asp)，藉此降低導入設計時的風險及不確定性，並且獲得65奈米製程技術可帶來的功率與效能上的優勢。

聯華電子系統架構支援部門林子聲總工程師表示，“市場上對於我們65奈米製程的廣大需求，象徵了客戶殷切期待此先進製程可賦予其產品的效能優勢，以及在現今的深次微米製程世代，聯華電子DFM解決方案於面對設計挑戰時的成功。事實上，DFM方面的顧慮自從90奈米製程世代之前就存在了，然而這個議題到最近才得到注意，並且成為討論的焦點。多年以來，聯華電子一直持續進行DFM解決方案的擴充，以冀在對設計流程干擾最小的情況下，因應今日新的製造挑戰。採用我們90奈米製程技術的客戶已受惠於此方案，現在，我們很高興能夠將這項競爭優勢擴展至採用我們65奈米及以下製程的客戶。”

對今日系統單晶片設計公司來說，每一個晶片設計都會帶給他們不同且獨特的DFM挑戰。因此，聯華電子提供的是經過最佳化的DFM資源，而非單一而一般性的DFM解決方案，客戶可以輕易地將這些資源與其現有的設計環境相結合。除了客制化的方法之外，聯華電子的DFM解決方案還涵蓋了能包含繁複製造過程的DFM相容矽智財。聯華電子也為每一個客戶提供設計定案後的服務，包括光學鄰近效應修正(OPC)，光學規則檢驗(LRC)，無作用金屬填充，金屬導線溝槽化…等等。

聯華電子完整的DFM解決方案包含了微影製程檢查(LPC)、關鍵區域分析(CAA)、光學與化學金屬研磨可感應變化的抽取、熱衝擊分析，以及統計靜態時序分析(SSTA)等等。聯華電子與所有主要的電子設計自動化廠商，以及提供特定DFM解決方案的DFM公司攜手合作，建構了此一全面性的65奈米方案。

林總工程師補充道，“聯華電子的DFM套件係以全方位的解決方案模式提供給客戶，由於我們可熟練地為客戶處理所有關鍵的DFM顧慮，因此客戶得以專注於開發其先進的65奈米系統單晶片設計。聯華電子透過提供65奈米製程技術檔案，以及其他必要的資訊給電子設計自動化廠商，使系統單晶片設計公司能經由這些廠商獲得此項能力。”

聯華電子的65奈米製程目前正在其台灣與新加坡的12吋晶圓廠內朝量產化邁進。今年7月24至28日於美國舊金山Moscone會議中心北館所舉辦的設計自動化會議(Design Automation Conference)，聯華電子將於編號3339號攤位展示其65奈米DFM方案的詳細內容。