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新的DEK套件針對電子設計自動化領導廠商的DFM工具，為無晶圓廠半導體客戶提供全方位的支援 聯華電子今日(11日)宣佈推出全方位的65奈米可生產性導向設計（DFM）支援套件。新的DFM設計Enablement套件（DEK）包含通過驗證的DFM工具所需的所有模型，可以支援聯華電子的65奈米製程技術。聯華電子與電子設計自動化領導廠商共同研發DEK，目的是替65奈米製程的客戶提供一個便利DFM解決方案。 “大家都了解，使用65奈米製程生產的IC設計在生產上會面臨許多挑戰，例如製程變異增加與可轉印性（printability）快速削減，這通常會導致良率不佳以及無法接受的效能變異，”聯華電子全球矽智財支援部門系統架構總長林子聲表示。“為了幫助設計公司應付65奈米製程的挑戰，聯華電子與業界電子自動化領導廠商緊密合作，成功地推出理想的DFM解決方案。” 聯華電子的DEK套件65奈米DFM解決方案，由三方面組成： 關鍵區域分析（CAA）：使用者可以執行例如金屬導線擴散與加密缺陷密度擴張等關鍵區域最佳化功能，來改善受缺陷限制的良率（DLY）。
化學機械研磨（CMP）：CMP厚度分析，以先進CMP模型為基礎的CMP模擬決定厚度變異，並且以補償時序導向的金屬填充。
微影模擬檢視（LSC）：使用微影模擬工具與加密技術資料，此項工具可分析不同佈局的影響，並且辨識潛在的微影熱點。
以通過驗證的模型為基礎，DEK針對電子設計自動化工具提供全方位的支援，包括在混合與比對不同電子設計自動化工具之下，以平台為基礎的解決方案與替代設計流程。這項套件包括方便使用者使用的圖像用戶介面（GUI），可以輕鬆的建立一個DFM設計資料庫，包括作為設計參考的應用紀錄與驗證報告。應用紀錄展示工具如何部署在不同的設計流程上。驗證報告則透過比較工具的預測值與驗證過的數據，展示精確性與效率。 “針對尖端的製程技術，DEK是我們全方位DFM支援最新增加的生力軍。我們承諾為客戶提供業界最完整並且方便使用的DFM解決方案，DEK套件就是最好的例證。”聯華電子系統架構部門設計工具與DFM支援總監Garry Shyu表示。 合作夥伴嘉許 “捷碼公司的TalusTM，Blast以及QuartzTM產品支援聯華電子通過驗證的DFM設計enablement套件（DEK）。使用DEK，我們可以在執行與最後設計定案的階段，解決關鍵區域分析、化學機械研磨以及微影熱點校正等問題，”捷碼公司實體驗證事業群總經理John Lee表示。“這項方案結合聯華電子的製程資訊與捷碼公司的執行與簽核工具，為採用65奈米設計的客戶提供最佳的解決方案。我們對這項解決方案深具信心，客戶關於設計上的生產問題將會獲得解決，並且能夠協助他們產出較佳良率與效能的產品。” “我們非常榮幸與聯華電子合作，確保我們的客戶能獲取精確的DFM工具，它們皆針對聯華電子製程經過最佳化，”明導國際設計生產部門副總裁兼總經理Joe Sawicki表示。“聯華電子使用Calibre簽核的客戶同時也能使用我們整合的DFM工具，我們的DFM整合工具與聯華電子的加密DFM模型緊密結合，可以增進客戶產品的良率。” “我們非常高興我們的全晶片DFM校準工具ACUMATM已在聯華電子的DEK套件中獲得驗證，”Nannor Technology總裁Yongbo Jia表示。“DFM校準工具對65奈米及以下製程的系統單晶片設計來說，是非常有價值的。以我們專利的技術為基礎，Acuma為設計公司提供全晶片佈局後最佳化解決方案，並且為製造收斂提供前所未有的功能與速度，同時維持時序收斂、信號完整性（SI）收斂以及功率收斂。Acuma可以與益華電腦、捷碼公司以及新思科技等主流電子設計自動化設計流程緊密結合。” “藉由我們公司與聯華電子合作的Building Bridges夥伴計劃，我們可持續嘉惠雙方的客戶,” Ponte Solution公司行銷與業務開發副總Michael Buehler-Garcia表示 “今日的消息擴展了我們雙方的努力，賦予65奈米晶片設計公司客製化調整其設計的能力，並因此而得已將來自於聯華電子65奈米製程的優勢最大化。” “隨著新製程節點的設計日趨複雜與一次試產成功的需求日益提昇，為了符合客戶的設計時程與滿足客戶對良率的期望，生產性導向設計（DFM）的創新是不可缺少的元素，”新思科技策略市場發展副總Rich Goldman表示。“為了良率分析與強化，我們與聯華電子的策略合作關係集中在DFM流程與工具上，新思科技協助聯華電子提供經驗證的DFM解決方案以滿足我們共同客戶的需求。” 取得方式 Note From UMC Concerning Forward-Looking
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