IP&設計手法

ファウンドリ設計キット/ 設計サポートマニュアル

FDK (MM/RF Foundry Design Kit、MM/RF ファウンドリーデザインキット)

FDK (ファウンドリーデザインキット)は、IC設計者に不要なマニュアルタスクを削減し、テープアウトの成功を保証する自動設計環境を提供します。

MM/RFの完成されたデザインフロー

MM/RF は、RFIC開発におけるフロント/バックエンドの両方をカバーしたUMCの各種プロセスに向けたデザインフローをもたらします。この手法により、回路レベルの設計及びシュミレーション、レイアウト、正確なRFデバイスモデルとともにレイアウト検証へのアクセスを提供します。これにより設計者は生産性を高め、エラーリスクを削減することができます。

  • フロントエンドにおいて、UMCのMM/RF プロセスの基本的なコンポーネントは、通常の設計環境及びシュミレーションツールに実装されています。
  • バックエンドには、自動で完璧なデザインフローを提供するための回路図駆動レイアウトが含まれるパラメータ化セル(PCell)が含まれます。
  • このデザインフローには、データエントリーを最小化するためにコールバック機能も提供されています。
VIL (Virtual Inductor Library、仮想インダクタライブラリ)

UMCとEDAツールのパートナー企業が提供する、全波シミュレーションに基づいた業界初のパラメータ化スパイラルインダクタデザインキットです。VILにより、RFCMOS設計者はUMCプロセスと互換性があるカスタムインダクタ配列を作成、シュミレーションすることができます。これはUMCの電磁設計手法(EMDM)の上に成り立っており、エンジニアは簡単かつ精確に全てのRF構造を作成することができます。EMDMにより、設計者は簡単に直径、回転数、トレース幅、間隔といったパラメーターを編集することで新たな配列を導入することができるフレキシビリティーが得られます。VILに加えて、UMCは仮想コンデンサライブラリ(Virtual Capacitor Library, VCL)、仮想トランスライブラリ(Virtual Transformer Library, VTL)も提供しています。

OIF (Optimum Inductor Finder、最適インダクタファインダー)

OIFにより設計者は精確にUMCシリコンに合わせて調整された膨大なインダクタライブラリに、ユーザーフレンドリーなソフトウェアを用いて簡単な手順だけで迅速にアクセスすることができます。クライアントは希望のインダクタを定義し、Q値とエリアの間でトレードオフすることができます。OIFはインダクタライブラリから最も仕様に最適な設計を数秒以内で選択します。 OIFに加えて、UMCはFDKパッケージ内でOCF (Optimized Capacitor Finder、最適コンデンサファインダー) およびOTF (Optimized Transformer Finder、最適トランスファインダー) も提供しています。

設計サポートマニュアル

下記の設計サポートマニュアルへのアクセスには、機密保持契約(NDA)への記入が必須です。パスワード入手後、MyUMCオンラインサービスポータル経由してテクニカルデータサービス (TDS) からマニュアルをダウンロードできます。


UMCプロセステクノロジーで利用可能なサポートマニュアルには下記が含まれます。

  • 電気のデザインルール
  • トポロジーのレイアウトルール
  • スパイスモデル
  • マスクツール
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