聯華電子今日 (6日) 與 IC 設計與驗收工具供應商 Extreme DA^TM 公司共同宣佈，雙方將合作提供 90 奈米及以下製程之使用者，新一代具變量意識之 IC 設計流程。此流程主要在透過解決可生產性導向設計 (DFM) 上的一些問題，例如參數良率與耗電量變異之預測與最佳化等，以達到減少設計上的不確定性並加速進入量產之時程。這項流程是以 Extreme DA 公司的 XT 驗收工具為基礎，目前已試用在聯華電子 90 奈米製程的測試晶片上。

目前雙方的合作重點集中於 65 奈米設計流程的研發，包括：

• 為收集特定製程變異數據的測試結構設計
• 前端與後端製程中各種變異數據的擷取，包括：純粹隨機、空間關聯隨機、晶方對晶方隨機、以及有系統的變異數據之擷取
• XT 統計時序預估之結果與實際矽晶量測的比對驗證
  
  

使用XT統計擷取與時序工具組，將使雙方的客戶能在聯華電子已獲驗證的 65 奈米製程上，使用這項獨特的、“具變量意識” 之驗收功能，達到提昇參數良率、降低不確定性以及強化設計功能的目標。

“我們的工程師持續研究開發不同的方法，協助我們的客戶強化設計，使更能達到參數良率預測與最佳化的目標，”聯華電子系統架構設計支援部門系統單晶片設計總工程師林子聲表示。“Extreme DA 公司的 IC 設計與驗收工具提供了珍貴的資源，協助客戶實現這個目標，而我們與 Extreme DA 公司的合作已產生了非常令人興奮的結果。我們期待在近期之內，將這項設計流程提供給我們 90 奈米及 65 奈米的客戶使用。”

Extreme DA 公司的執行長 Mustafa Celik 表示，“我們感到非常榮幸，能與聯華電子這樣世界頂尖的晶圓專工公司緊密合作，研發這項獨特的、具變量意識之設計驗收流程，讓先進系統單晶片設計公司使用。我們預期這項設計流程能滿足無晶圓廠半導體公司對更快速且精確的時序收斂、以及較高的晶片良率的需求。”

The XT^TM tool suite from Extreme DA provides the foundation of a variation-aware design flow for 65- and 45-nanometer ICs, facilitating parametric yield measurement, optimization, and robust design closure. XT models IC variations and analyzes the statistical effects on extraction, timing, noise, and power. The patent-pending ‘sensitivity analysis’ technology lets designers evaluate yield sensitivity with respect to a given cell or gate.

Headquartered in Palo Alto, Calif., venture-funded Extreme DA develops and licenses software products to accelerate the design of 65- and 45-nanometer integrated circuits (ICs). For the latest news and information on Extreme DA, visit www.extreme-da.com or write to [email protected].

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