聯華電子與明導國際 (Mentor Graphics) 今日 (13日) 共同宣佈，已針對混合訊號與射頻技術推出一系列新的晶圓專工設計套件 (FDK)。這一系列的設計套件在電晶體元件層級包含了經驗證的綜合區塊，協助 IC 設計公司直接進入聯華電子 0.13 微米與 90 奈米混合訊號 / 射頻製程的設計週期。套件配備有明導國際的類比 / 混和訊號 IC 流程，能加速類比、混和訊號以及射頻系統單晶片 IC 的上市時程並且將生產過程最佳化。

“明導國際針對聯華電子先進混和訊號 / 射頻製程設計的晶圓專工套件，提供了關鍵的技術，能協助我們的客戶達到首次試產即成功，”聯華電子全球市場行銷處副總鍾立朝表示。“因為套件通過明導國際完整的混和訊號系統單晶片設計流程驗證，客戶不但能獲得具競爭力的上市時程，也能輕易獲得經驗證的設計法則與生產方式。”

綜合的套件包括聯華電子 Eldo 模擬模式、Calibre 設計準則檢驗、佈局圖 (LVS) 與析出技術檔案，支援圖式佈局與模擬的圖式符號與可程式化元件產生器，以及一組客製化配置檔案。

“我們非常高興與聯華電子合作，提供這組綜合的套件，”明導國際 DSM 副總陳志賢表示，“這項合作結合了聯華電子經生產驗證的混和訊號與射頻製程，以及明導國際世界頂尖、經最佳化的混和訊號設計流程，將能使我們共同的客戶對他們的系統單晶片設計與生產擁有最理想的掌控與可預測性。”

聯華電子的主流 0.13 微米製程採用最高到 8 層的銅導線，閘級密度為 220k gates / mm2。聯華電子的 90 奈米製程自 2003 年三月即已進入量產，使聯華電子成為第一家產出 90 奈米客戶 IC 的晶圓專工公司。聯華電子與明導國際將持續合作，使用明導國際的 IC 流程，將套件延伸至 65 奈米及以下製程。明導國際的 IC 流程包含一個統一的設計平台與集中的設計指揮艙，使得從圖形捕捉、模擬、平面規劃，到實體佈局與最後驗證的階段，整個類比混和訊號 IC 設計流程都非常順暢。

Mentor Graphics Corporation (Nasdaq: MENT) is a world leader in electronic hardware and software design solutions, providing products, consulting services and award-winning support for the world’s most successful electronics and semiconductor companies. Established in 1981, the company reported revenues over the last 12 months of over $875 million and employs approximately 4,350 people worldwide. Corporate headquarters are located at 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777. World Wide Web site: http://www.mentor.com/.

Note From UMC Concerning Forward-Looking Statements
Some of the statements in the foregoing announcement are forward looking within the meaning of the U.S. Federal Securities laws, including statements about future outsourcing, wafer capacity, technologies, business relationships and market conditions. Investors are cautioned that actual events and results could differ materially from these statements as a result of a variety of factors, including conditions in the overall semiconductor market and economy; acceptance and demand for products from UMC; and technological and development risks.