Dec 11, 2007

聯華電子推出 65 奈米 DFM 設計 Enablement 套件

聯華電子今日 (11日) 宣佈推出全方位的 65 奈米可生產性導向設計 (DFM) 支援套件。新的 DFM 設計 Enablement 套件 (DEK) 包含通過驗證的 DFM 工具所需的所有模型,可以支援聯華電子的 65 奈米製程技術。聯華電子與電子設計自動化領導廠商共同研發 DEK,目的是替 65 奈米製程的客戶提供一個便利 DFM 解決方案。

“大家都了解,使用 65 奈米製程生產的 IC 設計在生產上會面臨許多挑戰,例如製程變異增加與可轉印性 (printability) 快速削減,這通常會導致良率不佳以及無法接受的效能變異,”聯華電子全球矽智財支援部門系統架構總長林子聲表示。“為了幫助設計公司應付 65 奈米製程的挑戰,聯華電子與業界電子自動化領導廠商緊密合作,成功地推出理想的 DFM 解決方案。”

聯華電子的 DEK 套件 65 奈米 DFM 解決方案,由三方面組成:

  • 關鍵區域分析 (CAA):使用者可以執行例如金屬導線擴散與加密缺陷密度擴張等關鍵區域最佳化功能,來改善受缺陷限制的良率 (DLY)。
  • 化學機械研磨 (CMP):CMP 厚度分析,以先進 CMP 模型為基礎的 CMP 模擬決定厚度變異,並且以補償時序導向的金屬填充。
  • 微影模擬檢視 (LSC):使用微影模擬工具與加密技術資料,此項工具可分析不同佈局的影響,並且辨識潛在的微影熱點。

以通過驗證的模型為基礎,DEK 針對電子設計自動化工具提供全方位的支援,包括在混合與比對不同電子設計自動化工具之下,以平台為基礎的解決方案與替代設計流程。這項套件包括方便使用者使用的圖像用戶介面 (GUI),可以輕鬆的建立一個 DFM 設計資料庫,包括作為設計參考的應用紀錄與驗證報告。應用紀錄展示工具如何部署在不同的設計流程上。驗證報告則透過比較工具的預測值與驗證過的數據,展示精確性與效率。

“針對尖端的製程技術,DEK 是我們全方位 DFM 支援最新增加的生力軍。我們承諾為客戶提供業界最完整並且方便使用的 DFM 解決方案,DEK 套件就是最好的例證。”聯華電子系統架構部門設計工具與 DFM 支援總監 Garry Shyu 表示。

合作夥伴嘉許

“聯華電子的 DEK 套件在益華電腦以模型為基礎、具變量意識的 DFM 解決方案與聯華電子的 65 奈米製程間,創造了一個理想的介面,”益華電腦 DFM 行銷事業群總監 Nitin Deo 表示。“聯華電子的DEK套件為益華電腦提供一個方便的管道,可以取得快速微影估計結果與領先業界的實體、電子、CMP 與時序分析 DFM 技術,需要有效的良率強化 DFM 解決方案的設計公司可以在 DEK 中一次找到他們需要的元素。”

“捷碼公司的 TalusTM,Blast 以及 QuartzTM 產品支援聯華電子通過驗證的 DFM 設計 enablement 套件 (DEK)。使用 DEK,我們可以在執行與最後設計定案的階段,解決關鍵區域分析、化學機械研磨以及微影熱點校正等問題,”捷碼公司實體驗證事業群總經理  John Lee 表示。“這項方案結合聯華電子的製程資訊與捷碼公司的執行與簽核工具,為採用 65 奈米設計的客戶提供最佳的解決方案。我們對這項解決方案深具信心,客戶關於設計上的生產問題將會獲得解決,並且能夠協助他們產出較佳良率與效能的產品。”

“我們非常榮幸與聯華電子合作,確保我們的客戶能獲取精確的 DFM 工具,它們皆針對聯華電子製程經過最佳化,”明導國際設計生產部門副總裁兼總經理 Joe Sawicki 表示。“聯華電子使用 Calibre 簽核的客戶同時也能使用我們整合的 DFM 工具,我們的 DFM 整合工具與聯華電子的加密 DFM 模型緊密結合,可以增進客戶產品的良率。”

“我們非常高興我們的全晶片 DFM 校準工具 ACUMATM 已在聯華電子的 DEK 套件中獲得驗證,”Nannor Technology 總裁 Yongbo Jia 表示。“DFM 校準工具對 65 奈米及以下製程的系統單晶片設計來說,是非常有價值的。以我們專利的技術為基礎,Acuma 為設計公司提供全晶片佈局後最佳化解決方案,並且為製造收斂提供前所未有的功能與速度,同時維持時序收斂、信號完整性 (SI) 收斂以及功率收斂。Acuma 可以與益華電腦、捷碼公司以及新思科技等主流電子設計自動化設計流程緊密結合。”

“藉由我們公司與聯華電子合作的 Building Bridges 夥伴計劃,我們可持續嘉惠雙方的客戶,”  Ponte Solution 公司行銷與業務開發副總 Michael Buehler-Garcia 表示 “ 今日的消息擴展了我們雙方的努力,賦予 65 奈米晶片設計公司客製化調整其設計的能力,並因此而得已將來自於聯華電子 65 奈米製程的優勢最大化。”

“隨著新製程節點的設計日趨複雜與一次試產成功的需求日益提昇,為了符合客戶的設計時程與滿足客戶對良率的期望,生產性導向設計 (DFM) 的創新是不可缺少的元素,”新思科技策略市場發展副總 Rich Goldman 表示。“為了良率分析與強化,我們與聯華電子的策略合作關係集中在 DFM 流程與工具上,新思科技協助聯華電子提供經驗證的 DFM 解決方案以滿足我們共同客戶的需求。”

取得方式

聯華電子的DEK套件目前支援益華電腦 (Cadence Design Systems)、捷碼公司 (Magma Design Automation)、明導國際 (Mentor Graphics)、Nannor Technologies、Ponte Solutions 與新思科技 (Sysnopsys Inc.) 等領導廠商的電子設計自動化工具。透過聯華電子的客服中心或設計支援部門,即可立即取得這項套件。

Note From UMC Concerning Forward-Looking Statements
Some of the statements in the foregoing announcement are forward looking within the meaning of the U.S. Federal Securities laws, including statements about future outsourcing, wafer capacity, technologies, business relationships and market conditions. Investors are cautioned that actual events and results could differ materially from these statements as a result of a variety of factors, including conditions in the overall semiconductor market and economy; acceptance and demand for products from UMC; and technological and development risks.

 

聯華電子 新聞聯絡

顏勝德 (Sandy Yen)

+886-2-2700-6999 ext. 6968

sandy_yen@umc.com

 
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