使用氮濃度分佈工程縮減有效氧化厚度至 1 奈米,以增進半導體的效能
身為半導體晶圓專工的領導者,聯華電子將繼續保持製程技術領先優勢與開創新的競爭策略
聯華電子二十五週年慶以公益行動展現企業回饋社會暨深耕台灣決心
現已可為無晶圓廠設計公司客戶提供 90 奈米 X Architecture 晶片製造服務
拓展產學合作,宣示深耕台灣之決心
NOVeA 嵌入式非揮發性記憶體可提供設計安全性、數位權管理、取代雷射導線,並且提供彈性記憶體給對成本敏感的 ROM 應用產品 - 無須額外的光罩或製程步驟