聯電 28 奈米平台擁有多年量產經驗與充足產能,可提供穩健且高品質的解決方案。此平台也可協助客戶從 40 奈米製程自然升級,確保更簡易地導入、降低開發風險並加快產品上市速度。該技術涵蓋 28HLP 多晶矽/氮氧化矽(poly-SiON)以及 28HPC/HPC+ 高介電常數金屬閘極(HKMG)製程,針對效能、功耗與面積(PPA)進行高度最佳化。28HPC+ 更導入特殊的極高臨界電壓(eHVt)電晶體選項,搭配既有的多重臨界電壓(multi-Vt)選項,可在不影響晶片面積或成本目標的情況下,提升整體能源效率並延長電池續航力。此製程非常適合 Wi-Fi 模組、現場可程式化閘陣列(FPGA)、影像訊號處理器(ISP)與網路通訊晶片等同時要求高效能與優異能源效率的應用。
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